随着光电子产业的日益发展，许多成像和数码显示的各种产品越来越趋于高亮度、超高清晰度、超大面积、超精细的结构方向发展，因而对光电子产业所使用的材料也趋于更高要求。例如极好的、安定的折射率，极高的密度、纯度和高透光度的均质化材料被不断开发和应用。

精密光学材料的主要特性是：

①高的密度、纯度一般都在4个9以上，其密度都接近大块材料内部致密结构、水气、吸附气体几乎没有，材料的内部和外部表面几乎没有有机和无机的悬浮物。

②均质的优良的光学参数, 几乎在整个使用的蒸镀条件下其光学参数n，k 很少变化且使用方便，在使用光谱段内，透光度高和尽可能小的消光系数，而不会因使用过程中因蒸镀时间的增加而光学参数也随之变化。对于高性能的减反射膜、干涉滤光片任何微小的损耗和参数变化都是不可忽视的。

③具有良好的机械物理性质，它不但可以蒸镀在玻璃和各种晶体材料上，而且还可以蒸镀在塑料类材质上，有极好的牢固度和优良的面精度表面。