溅射靶材磁控溅射有哪些原理?

访问量 : 11
更新时间 : 2024-11-28

磁控溅射原理:在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,溅射靶材在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气),永久磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。

在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电子,靶上加有一定的负高压,从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大,在阴极附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面,以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。

而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外,也可溅射非导电的材料,同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。溅射靶材射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射,目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。

相关新闻
Read More >>
粉末冶金项目部参加“第二十六届中国国际玻璃工业技术展览会 粉末冶金项目部参加“第二十六届中国国际玻璃工业技术展览会
2024-11-28
2015年5月20~23日,睿特公司粉末冶金制品项目部参加了在北京中国国际展览中心(新馆)举办的 “第···
科技部:国家重点支持的新材料高新技术领域 科技部:国家重点支持的新材料高新技术领域
2024-11-28
根据科技部网站公布的消息,国家重点支持的高新技术领域:一、电子信息二、生物与新医药三、航空···
精密光学材料特性 精密光学材料特性
2024-11-28
随着光电子产业的日益发展,许多成像和数码显示的各种产品越来越趋于高亮度、超高清晰度、超大面···
溅射靶材磁控溅射有哪些原理? 溅射靶材磁控溅射有哪些原理?
2024-11-28
磁控溅射原理:在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,溅射靶材在高真空室中充入···

在线留言