问题：反响磁控溅射技艺堆积氮化锆薄膜，靶材是两英寸的，溅射气体爲氩气，反响气体爲N2，功率300W，射频电源，堆积了两个小时，完后取出靶一看出现了标题中所述的景象，是靶中毒仍是其他什麼缘由，但爲什麼只需半边出现?下面溅射靶材小编为大家详细介绍下。

缘由分析1：能够与射频电源的引进有关

缘由分析2：这麼小的靶，两英寸?冷却平均麼

缘由分析3：这麼小的靶还加300W的功率，冷却跟得上吗?疑心是冷却欠好，构成半边发乌!

缘由分析4：冷却不行。温度太高了吧

缘由分析5：能够跟功率过高有关，我直径60的靶功率只敢加到100W左右

缘由分析6：两小时中电源平稳吗?能够是能量太高,也能够是靶的一边碰到接地的部件了

缘由分析7：疑似气密性有成绩，团体以为

处置定见1：主张1)检查气体平均性;2)能否一侧有漏气?

处置定见2：主张去做个XPS分析，或是再重新做一遍实验看看。

总结：归结上述分析的缘由，招致靶材中毒发乌的首要缘由是温渡过高、电源不平稳、气体平均性及气密性。检查这些能够的首要缘由，一步一步扫除处置。

以上就是溅射靶材小编为大家介绍的所有内容，希望对大家有所帮助。